一种串级批量制备电镀源的装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种串级批量制备电镀源的装置，至少包括：电镀槽(1)，用于盛放电沉积液；阳极(2)和阴极(3)，同时放置于所述电沉积液中，使得在所述阳极(2)和所述阴极(3)通电的情况下，能够触发所述电沉积液产生电化学反应；在所述装置至少具有第一电镀槽(1a)、第二电镀槽(1b)和第三电镀槽(1c)的情况下，所述第一电镀槽(1a)、所述第二电镀槽(1b)和所述第三电镀槽(1c)按照串联以使得其各自所对应的电沉积液中流经的电流大小均相同的方式连接。
基本信息
专利标题 ：
一种串级批量制备电镀源的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921219503.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN211227404U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
范富有刘皓然梁珺成张健
申请人 ：
中国计量科学研究院
申请人地址 ：
北京市朝阳区北三环东路18号
代理机构 ：
北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
何志欣
优先权 ：
CN201921219503.2
主分类号 ：
C25D17/02
IPC分类号 ：
C25D17/02 C25D17/00 C25D17/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/02
镀槽；镀槽的安装
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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