一种线性蒸发源机构
授权
摘要
本实用新型提供一种线性蒸发源机构：包括坩埚腔室，坩埚腔室下方均匀分隔着若干个独立的点源坩埚，所述坩埚腔室上方两侧设有可升降的限制板，所述限制板顶端连接着角度板，两侧角度板的方向指向二者之间上方的中间位置。通过机构中限制板的上下升降，来改变蒸镀气流在坩埚腔室内的行程，从而增加蒸发气流的混合时间，改善混合气流均匀性，同时通过调节角度板的角度来调节蒸发气流喷射角，使得蒸发气流预先混合均匀后再均匀沉积到基板表面，进而不仅改善膜层厚度不良，也可以减轻阴影效应问题。
基本信息
专利标题 ：
一种线性蒸发源机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921295073.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-12
授权号 ：
CN210657111U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
黄逸臻王海燕
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐剑兵
优先权 ：
CN201921295073.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/12 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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