一种半导体加热炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体加热炉,其结构包括显示屏、柜门、炉体、排放口、底座、进料口,本实用新型一种半导体加热炉,通过炉体上的进料口输送原料,使其来到炉体内进行加热加工,最后经由排放口上排放出来,在原料较多流通缓慢的时候,可以通过转动外壳上的转动把手使其带动扇形转动块进行转动,让扇形转动块上的啮齿与往复推块上的齿块相配合,从而使往复推块进行上下的往复运动,从而带动底部的疏通杆进行上下的震动运动,与流通进来的原料相配合,加快其流通速度,通过改进设备的结构,使其在进行使用的时候,能够便捷的对流通缓慢,堵塞的原料进行快速疏通。
基本信息
专利标题 :
一种半导体加热炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921300961.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-12
授权号 :
CN210833085U
授权日 :
2020-06-23
发明人 :
黄辉成
申请人 :
英迪那米(徐州)半导体科技有限公司
申请人地址 :
江苏省徐州市经济技术开发区庙山路1号2号厂房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921300961.9
主分类号 :
F27D11/02
IPC分类号 :
F27D11/02 F27D1/18 F27D3/04 F27D7/04
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D11/00
炉内或炉上电热元件的配置
F27D11/02
欧姆电阻加热的
法律状态
2020-06-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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