一种真空辐照盒的水冷结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空辐照盒的水冷结构，包括机架，机架上还设置有辐照装置，所述辐照装置包括电子枪、加速器、扫描磁铁和真空辐照盒，所述电子枪和扫描磁铁分别与加速器相连，所述真空辐照盒与扫描磁铁相连，所述真空辐照盒的外壁上设置有降温水管。降温水管的设计可以很好的对真空辐照盒进行防护，当发生电子束丢失在辐照盒内壁上的事故时，产生的热量会被冷却水带走，防止辐照盒局部过热而损坏，为整个电子束辐照装置的安全稳定运行提供保障。
基本信息
专利标题 ：
一种真空辐照盒的水冷结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921375333.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
CN211016567U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
聂元存高宁蒋弢袁卫峰李湘平胡飞王俊佳姜晨
申请人 ：
上海高鹰科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区漕泾镇亭卫公路3308号1幢2层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921375333.7
主分类号 ：
G21K5/00
IPC分类号 ：
G21K5/00 H05K7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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