一种内置于真空腔体的磁钢摆动式端头组件
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摘要
一种内置于真空腔体的磁钢摆动式端头组件，包括装置本体、磁钢、靶管、磁钢芯轴、轴承、盖板、端头、第一传动部件、第二传动部件、靶管旋转传动件和磁钢摆动传动件；磁钢与靶管均转动设置在装置本体内部；装置本体设置在端头的上方；磁钢的底部与磁钢芯轴连接；磁钢芯轴转动安装在端头内部，磁钢芯轴外周设置有轴承；磁钢芯轴下部与第一传动部件传动连接；靶管设置在磁钢的外周，靶管的下部与第二传动部件传动连接；磁钢摆动传动件一端与第一传动部件传动连接，另一端与马达动力连接；靶管旋转传动件的一端与第二传动部件传动连接，另一端连接动力机构。本实用新型中，具有更好的靶材溅射沉积速率，以及更小的安装空间和更加优化的产线布局。
基本信息
专利标题 ：
一种内置于真空腔体的磁钢摆动式端头组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921430561.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-30
授权号 ：
CN210394510U
授权日 ：
2020-04-24
发明人 ：
朱世元闫乃明
申请人 ：
深圳市金耀玻璃机械有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福永街道和平和泰工业区第1幢第一层A
代理机构 ：
重庆百润洪知识产权代理有限公司
代理人 ：
程宇
优先权 ：
CN201921430561.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-04-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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