一种单面黑柔性电子屏蔽结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种单面黑柔性电子屏蔽结构，包括基体，所述基体的上表面由下至上设置有导电层和金属层，所述导电层由镍金属在基体的上表面进行真空蒸制成，所述金属层是由电沉积铜在导电层上制成，所述基体的下表面设置有遮光层组。该种单面黑柔性电子屏蔽结构，通过在基体上表面镀有铜和镍结合的金属层，从而使得基体具有极佳的导电性和良好的电磁屏蔽效果以及抗氧化和防腐性能，提高使用寿命；在基体的下表面首先喷涂一层石墨作为吸波层，然后在吸波层上涂抹一层黑色油墨，进行对电磁波的吸收和光的隔绝，进一步提高电子屏蔽效果，而且有助于提高整个电子屏蔽结构的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种单面黑柔性电子屏蔽结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921500052.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-10
授权号 ：
CN211064041U
授权日 ：
2020-07-21
发明人 ：
何志能叶义林
申请人 ：
湖南省凯纳方科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省郴州市北湖区南岭大道长冲科技工业园2栋
代理机构 ：
北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人 ：
李宝硕
优先权 ：
CN201921500052.X
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
法律状态
2020-07-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
