本实用新型公开了一种高效磁阵列磁场辅助光整加工装置，本实用新型通过阵列的方式，能有效克服单元磁体尺寸的限制，获得大面积的励磁范围，形成大抛光模，增大加工面积与加工效率。其次，按海尔贝克阵列规律排列的励磁阵列，提高了磁场能量的利用率，在加工面形成更强的磁场，同时具有更大的磁场梯度，强度和梯度的共同作用下获得了优异的加工效果，加工效率高，粗糙度收敛快，表面质量好。磁场能量的充分利用，使获得同样加工效果的励磁装置，使用的励磁材料更少，有利于加工装置的小型化制造，实现减材增效的目标。最后，该方法具有较强的灵活性，励磁单元可阵列为各种形状，以应对各类平面、曲面的光整加工。