一种真空反应室用压力检测机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空反应室用压力检测机构，包括表盘外壳和固定接头管，所述固定接头管安装固定在表盘外壳的下端中间位置上，所述表盘外壳和固定接头管连接处设置有六角螺母，所述表盘外壳的前端中间设置有弧形遮挡块，所述弧形遮挡块包括弧形前块、阻挡连接块和弧形凸块，通过弧形前块、阻挡连接块和弧形凸块所组成的弧形遮挡块起到很好的遮挡作用，而弧形遮挡块的阻挡连接块连接在表盘外壳上，从而弧形前块在伸缩的时候不易脱落，这样人员可以很好的根据需要来调节弧形前块的位置，使得起到很好的遮挡灰尘和遮光作用，而调节的时候，通过弧形凸块便于进行抽拉使用，使得在使用的时候更加便利。
基本信息
专利标题 ：
一种真空反应室用压力检测机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921555387.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-18
授权号 ：
CN210533601U
授权日 ：
2020-05-15
发明人 ：
王浩明陈永萍张莉张广德
申请人 ：
苏州子山半导体科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区唯新路69号一能科技园5幢102室
代理机构 ：
苏州国卓知识产权代理有限公司
代理人 ：
薛芳芳
优先权 ：
CN201921555387.1
主分类号 ：
G01L21/00
IPC分类号 ：
G01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L21/00
真空计
法律状态
2020-05-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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