一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置
授权
摘要
本实用新型实施例涉及一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置，所述装置包括：第一光源、辅助聚光镜、第二光源、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、目镜、CCD；其中，第一光源、辅助聚光镜、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、CCD以水平线为基准，以预设间距依次排开；第二光源在反射镜上方或者下方，目镜在分光棱镜斜上方或者斜下方；视场光阑、相板、分光棱镜在同一模块进行固定，刀口、第三透镜在同一模块进行固定。
基本信息
专利标题 ：
一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921593420.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-24
授权号 ：
CN210803295U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
戴国亮史建平
申请人 ：
中国科学院力学研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区北四环西路15号
代理机构 ：
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
席卷
优先权 ：
CN201921593420.X
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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