形貌测量方法及其测量装置
授权
摘要
一种形貌测量方法(surface profile measuringmethod)，是以一宽频光源经分光镜分束后，分别照射待测物体表面与一参考面，由两个表面的反射光产生干涉，以一固定步幅，改变物体表面与分光镜的距离，产生一高度值对应于光强度的干涉图谱。接下来，扫描此干涉图谱，找出对应于最大光强度的第一干涉条纹。然后，于第一干涉条纹及其附近的干涉条纹中，使用干涉图谱对称性原则，找出对称性最佳的一第二干涉条纹。随后，在此第二干涉条纹上，利用相位补偿法，计算出第二干涉条纹的波峰所对应的零光程差处，即为待测物体表面的高度值。
基本信息
专利标题 ：
形貌测量方法及其测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1952594A
申请号 ：
CN200510114335.7
公开（公告）日 ：
2007-04-25
申请日 ：
2005-10-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张宏彰林耀明
申请人 ：
致茂电子股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省桃园县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李强
优先权 ：
CN200510114335.7
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24 G01B9/02 G01B9/04
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2010-04-14 ：
授权
2007-06-13 ：
实质审查的生效
2007-04-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1952594B.PDF
PDF下载
2、
CN1952594A.PDF
PDF下载
