一种金属箔带卷绕式真空镀膜连续生产线
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摘要
一种金属箔带卷绕式真空镀膜连续生产线，包括镀膜室，分前后两段，前后段各腔室的一侧面对应都开了窗口，对应于各窗口的机架一侧，各设有垂直于机架的轨道；前段置平面矩形阴极电弧源装置，包括靶材和移动小车，靶材固定在移动小车立面板上且位于支承抽屉盒内；移动小车行走在垂直轨道上、上面设有由框架和立面板组成的密封门托架，立面板朝向窗口方向的面为密封面与窗口的窗框对应密封设计，立面板上固定着伸向窗口的槽型的支承抽屉；后段置旋转柱状中频磁控贱射靶装置，包括溅射靶和移动小车组件，溅射靶固定在立面板上且位于支承抽屉盒内；通过移动小车使靶材和溅射靶分别推入或拉出各腔室。本实用新型镀膜镀层颜色均匀稳定且工艺过程可靠。
基本信息
专利标题 ：
一种金属箔带卷绕式真空镀膜连续生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921605837.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-25
授权号 ：
CN211546657U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
李志荣冯晓庭魏艳玲周锐刘江江邓石新黄雄
申请人 ：
广东汇成真空科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市大岭山镇颜屋龙园路2号
代理机构 ：
广州知友专利商标代理有限公司
代理人 ：
周克佑
优先权 ：
CN201921605837.3
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/32 C23C14/35 C23C14/54 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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