一种金属箔带卷绕式真空镀膜设备
授权
摘要
一种金属箔带卷绕式真空镀膜设备，设有等离子体除残留胶腔室,前段为高压辉光放电刻蚀除残胶段，后段为柱状弧光电子源刻蚀段，腔室侧面开了两窗口、一侧设有轨道；高压辉光放电刻蚀除残胶装置组件，包括离子清除残胶高压棒组件和第一移动小车，小车行走在轨道上、上面设有由立面板和框架组成的密封门托架，立面板上固定着伸向窗口的槽型支承抽屉；离子清除残胶高压棒组件固定在立面板上；柱状弧光电子源刻蚀装置组件，包括柱状弧光电子源和第二移动小车组件；柱状弧光电子源固定在立面板上；通过移动小车在垂直于机架的轨道上的来回行走，使得离子清除残胶高压棒组件和柱状弧光电子源可推入或拉出腔室。本实用新型除胶效果良好。
基本信息
专利标题 ：
一种金属箔带卷绕式真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921605838.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-25
授权号 ：
CN211897101U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
李志荣冯晓庭魏艳玲周锐刘江江邓石新黄雄
申请人 ：
广东汇成真空科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市大岭山镇颜屋龙园路2号
代理机构 ：
广州知友专利商标代理有限公司
代理人 ：
周克佑
优先权 ：
CN201921605838.8
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/02 C23C14/32 C23C14/35 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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