一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统

授权

摘要

本实用新型提供一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统，包括预清洗部和慢提拉部，还包括第一药液清洗部、第一溢流清洗部、第二药液清洗部、第三药液清洗部和第二溢流清洗部，预清洗部、第一药液清洗部、第一溢流清洗部、第二药液清洗部、第三药液清洗部、第二溢流清洗部与慢提拉部依次设置，并通过移动抓取装置连通，对硅片依次进行清洗；慢提拉部以一定倾斜角度倾斜设置，以使得硅片表面水分拉干；第一药液清洗部中的药液为清洗剂溶液；第二药液清洗部中的药液为高浓度清洗药液溶液；第三药液清洗部中的药液为低浓度清洗药液溶液。本实用新型的有益效果是对硅片进行三次药液清洗，硅片表面洁净度高，提高硅片表面洁净度，提升后续电池片的转化效率。

基本信息

专利标题：

一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921657478.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-30

授权号：

CN211914783U

授权日：

2020-11-13

发明人：

王冬雪孙小杰王大伟黄磊郭成钢

申请人：

内蒙古中环光伏材料有限公司

申请人地址：

内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区宝力尔街15号

代理机构：

天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

栾志超

优先权：

CN201921657478.6

主分类号：

B08B3/08

IPC分类号：

B08B3/08 B08B3/12 B08B11/00 B08B13/00