一种清洗超大尺寸单晶硅片的清洗溢流系统

授权

摘要

本实用新型提供一种清洗超大尺寸单晶硅片的清洗溢流系统，包括第一纯水清洗部、第二纯水清洗部、第三纯水清洗部、第四纯水清洗部和第五纯水清洗部，第一纯水清洗部、第二纯水清洗部、第三纯水清洗部、第四纯水清洗部与第五纯水清洗部依次设置；第一储水箱的进水口与第二纯水清洗部连通，第二储水箱的出水口与第一纯水清洗部连通；第二储水箱的进水口与第四纯水清洗部连通，第二储水箱的出水口与第三纯水清洗部连通；第三储水箱的进水口与第五纯水清洗部连通，第三储水箱的出水口与第四纯水清洗部连通。本实用新型的有益效果是单槽纯水流量增加，漂洗能力好，硅片表面更加洁净；采用循环水溢流方式，整体溢流量减少，总用水量降低，降低纯水成本。

基本信息

专利标题：

一种清洗超大尺寸单晶硅片的清洗溢流系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922078014.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-27

授权号：

CN211679035U

授权日：

2020-10-16

发明人：

王冬雪郭俊文黄磊孙小杰赵越

申请人：

内蒙古中环光伏材料有限公司

申请人地址：

内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区宝力尔街15号

代理机构：

天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

栾志超

优先权：

CN201922078014.6

主分类号：

B08B3/04

IPC分类号：

B08B3/04 B08B3/08 B08B3/10 H01L21/67