光源调制模块及光学相干层析成像分析系统
授权
摘要
本实用新型提出了一种光源调制模块及光学相干层析成像分析系统，通过对光学相干层析成像系统的光源进行频率调制去除复共轭像，包括光纤耦合器一、动镜模块、静镜模块和光纤耦合器二；所述光纤耦合器一对普通光源进行耦合后分别入射至动镜模块和静镜模块，经动镜模块和静镜模块反射的反射光送入所述光纤耦合器二进行耦合得到干涉信号，该干涉信号作为光学相干层析成像系统的光源入射至光学相干层析成像系统；所述动镜模块包括依次设置的准直透镜一、平面反射镜一和驱动所述平面反射镜一进行移动的电机；所述静镜模块包括依次设置的准直透镜二和平面反射镜二。
基本信息
专利标题 ：
光源调制模块及光学相干层析成像分析系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921703654.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-12
授权号 ：
CN211528210U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
卞海溢徐浩渊季仁东王晓燕陈瑞强朱铁柱于银山丁靓韩亚曹蕾
申请人 ：
淮阴工学院
申请人地址 ：
江苏省淮安市洪泽区东七街三号高新技术产业园A12-2（淮阴工学院技术转移中心洪泽分中心）
代理机构 ：
南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
颜盈静
优先权 ：
CN201921703654.5
主分类号 ：
G01N21/45
IPC分类号 ：
G01N21/45 G01N21/01 G02B26/10 G02B27/28 G02B27/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率；影响相位的性质，例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法，利用纹影方法
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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