一种CC霜加工用沉淀装置
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摘要

本实用新型公开了一种CC霜加工用沉淀装置,包括沉淀罐,所述沉淀罐的底部开设有出料口,所述沉淀罐的顶部前表面开设有投料口,所述沉淀罐的顶部架设有电机架,诉搜狐电机架的顶部架设有混合电机,所述沉淀罐的外侧套接装设有热熔套,所述热熔套的内侧装设有云母片,所述云母片的内侧嵌设有电热丝;在该沉淀罐的外壁上套装旋设有一个热熔套,当通过该装置沉淀加工后,通常内壁上残留的CC霜容易干枯粘附在内壁上,导致无法完全放料,通过热熔套的预热作用,可防止CC霜干燥残留在罐体内壁上,该装置的顶部的混合电机架设在电机座上,且在电机座与电机架之间装设有弹簧柱,在使用该装置时,可防止加工过程产生较大的晃动,提高了沉淀罐的稳定性。

基本信息
专利标题 :
一种CC霜加工用沉淀装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921726992.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-15
授权号 :
CN211383925U
授权日 :
2020-09-01
发明人 :
吴小伟
申请人 :
杭州新钻化妆品有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市滨江区长河街道安业路229号君尚大厦617室
代理机构 :
北京艾皮专利代理有限公司
代理人 :
姜宇
优先权 :
CN201921726992.0
主分类号 :
B01D21/02
IPC分类号 :
B01D21/02  B01D21/18  B01D21/22  B01D21/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D21/00
用沉积法将悬浮固体微粒从液体中分离
B01D21/02
沉降槽
法律状态
2020-09-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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