涂胶显影机吸盘治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种涂胶显影机吸盘治具,包括真空吸盘装置,还包括基板载具、目标载片,所述的基板载具上侧面为承载面、下侧面为吸附面,所述的目标载片设于基板载具承载面上,所述基板载具上设有多个贯穿承载面、下侧面的通孔,所述的真空吸盘装置与基板载具吸附面贴合;所述的基板载具面积大于目标载片面积,所述的通孔分布在目标载片与基板载具的接触面内;所述的基板载具为圆形片,所述的目标载片为方形片;所述的基板载具为直径199.7mm、厚度0.7mm的圆形玻璃片,所述目标载片与基板载具材质相同。本实用新型设计简单,制作成本低,拆装灵活,治具重复利用率高,降低生产成本,解决了实际生产问题。
基本信息
专利标题 :
涂胶显影机吸盘治具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921841294.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-30
授权号 :
CN210402007U
授权日 :
2020-04-24
发明人 :
陈银培葛文志丁宇能杨巨椽朱毅翁钦盛
申请人 :
杭州美迪凯光电科技股份有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道20号大街578号
代理机构 :
杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
丁少华
优先权 :
CN201921841294.5
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16 G03F7/30
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-04-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210402007U.PDF
PDF下载