清洗装置及涂胶显影机
授权
摘要
本实用新型提供了一种清洗装置及涂胶显影机，清洗装置包括：清洗结构，包括清洗槽和围绕清洗槽设置的流体通道，清洗槽设置有多个流体出口，清洗槽通过流体出口与流体通道连通；至少两个流体输送部，至少两个流体输送部绕流体通道的周向间隔设置，流体输送部与流体通道连通，以向流体通道内通入流体；其中，至少两个流体输送部中的两个流体输送部设置在清洗槽的相对两侧。本实用新型的清洗装置解决了现有技术中的清洗装置的清洗效果较差的问题。
基本信息
专利标题 ：
清洗装置及涂胶显影机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122255204.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-16
授权号 ：
CN216150523U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
陈建宇申文帅程志
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘鑫
优先权 ：
CN202122255204.8
主分类号 ：
B08B3/04
IPC分类号 ：
B08B3/04 B08B13/00 G03F7/20
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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