一种遮光结构和涂胶显影机
授权
摘要
本实用新型提供了一种遮光结构和涂胶显影机，所述遮光结构包括遮光挡片和垂直边框，所述垂直边框设置在所述遮光挡片的边缘处且与所述遮光挡片垂直，所述垂直边框的中部与所述遮光挡片连接。所述遮光结构应用于涂胶显影机的晶圆边缘曝光单元中，当所述遮光结构处于工作状态时，激光器发射的光线照射到所述遮光挡片的对光面和所述垂直边框的内侧，可成功防止反射的光线透过晶圆边缘曝光单元中的缝隙照射到晶圆表面上，从而彻底解决漏光问题，避免出现产品缺陷以及WEE监控器监控失败的情况。
基本信息
专利标题 ：
一种遮光结构和涂胶显影机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921189178.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-25
授权号 ：
CN210109554U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
顾飞
申请人 ：
上海华力微电子有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区良腾路6号
代理机构 ：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
屈蘅
优先权 ：
CN201921189178.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/16 G03F7/26
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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