涂胶显影机清洗系统
授权
摘要

本实用新型公开了涂胶显影机清洗系统,包括调节结构、箱体、工作台和过滤结构,所述工作台的顶端固定连接有箱体,且箱体的内部设置有水箱,所述水箱的顶端固定连接有管体,且管体的外侧壁上设置有水泵,所述管体的外侧壁上设置有调节结构。本实用新型通过在工作台的底端安装有过滤结构,使用时废水从水槽内排入滤箱内部,由滤箱内设置的滤芯对进行过滤净化,滤芯内部设置的活性炭滤层和椰壳颗粒层可对废水中的有毒有害物质和异味进行祛除吸附,再经过粗网层和细网层对其进行进一步的过滤排除,使废水有效净化过滤,可重复再利用,通过过滤结构的设置使装置内废水的过滤净化效果更好,废水排放达标。

基本信息
专利标题 :
涂胶显影机清洗系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922400051.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-27
授权号 :
CN211488799U
授权日 :
2020-09-15
发明人 :
安礼余
申请人 :
宇弘研精密机械(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区加成花园中新大道西128号幢11D室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201922400051.4
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B3/14  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2020-09-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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