一种基于簇系统的全自动涂胶显影机
授权
摘要
本实用新型属于半导体制造技术领域，具体涉及一种基于簇系统的全自动涂胶显影机，包括机架、安装在机架上端面的涂胶机构、硅片的输送机构及控制机构，所述涂胶机构主要包括固设在机架上的固定架，所述固定架远离机架的一端固设有垂直方向的升降气缸，所述升降气缸的底端固设有水平放置的涂胶器，且涂胶器位于输送机构的正上方，所述输送机构主要包括水平放置的放置板、开设在放置板上表面的多个放置槽、固设在放置板下端面的移动块，所述放置槽内设置有用于固定硅片的定位组件；所述移动块在机架的上端面滑动，克服了现有技术的不足，具备便于对硅片固定以及加工效率高等优点，解决了传统的加工装置存在使用效果一般的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种基于簇系统的全自动涂胶显影机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020369762.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-23
授权号 ：
CN211478870U
授权日 ：
2020-09-11
发明人 ：
周杰张琪李俊毅杨涛
申请人 ：
北京新毅东科技有限公司
申请人地址 ：
北京市石景山区政达路6号院4号楼12层1212
代理机构 ：
合肥律众知识产权代理有限公司
代理人 ：
丁孝涛
优先权 ：
CN202020369762.X
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-09-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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