涂胶显影机基板固定工作片优化结构

授权

摘要

本实用新型公开了一种涂胶显影机基板固定工作片优化结构，包括固定在涂胶显影机上的基板载具，还包括至少一片工作片，所述的工作片均匀设于基板载具上，所述工作片底面与基板载具表面之间设有贴附层，所述工作片与基板载具通过贴附层固定；所述的基板载具为圆形片，所述的工作片为方形片或圆形片；所述的贴附层采用涂胶工艺稀释剂。本实用新型设计简单，制作成本低，拆装灵活，解决了实际生产问题。

基本信息

专利标题：

涂胶显影机基板固定工作片优化结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921841524.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-30

授权号：

CN211086914U

授权日：

2020-07-24

发明人：

丁宇能葛文志陈银培邵铭杨巨椽朱毅翁钦盛

申请人：

杭州美迪凯光电科技股份有限公司

申请人地址：

浙江省杭州市杭州经济技术开发区白杨街道20号大街578号

代理机构：

杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

丁少华

优先权：

CN201921841524.8

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/20