一种涂胶显影机化学液供料系统
授权
摘要

本实用新型公开了一种涂胶显影机化学液供料系统,包括:第一缓冲罐、第二缓冲罐、原料输出泵、原料储存罐;所述第一缓冲罐通过第一管道连接所述原料输出泵;所述第一管道上设置有第一阀门,用于控制所述第一管道的通闭;所述第二缓冲罐通过第二管道连接所述原料输出泵;所述第二管道上设置有第二阀门,用于控制所述第二管道的通闭;所述原料储存罐通过第三管道连接所述第一缓冲罐;所述第三管道上设置有第三阀门,用于控制所述第三管道的通闭;所述原料储存罐通过第四管道连接所述第二缓冲罐;所述第四管道上设置有第四阀门,用于控制所述第四管道的通闭。本实用新型的技术效果是:运行过程维护方便,供料过程中不中断。

基本信息
专利标题 :
一种涂胶显影机化学液供料系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021945811.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-08
授权号 :
CN213122595U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
张怀宣
申请人 :
上海众鸿电子科技有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区沈梅路600号4幢1楼
代理机构 :
上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郭桂峰
优先权 :
CN202021945811.6
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  G03F7/30  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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