一种具有曝光功能的涂胶显影机
授权
摘要
本实用新型提供一种具有曝光功能的涂胶显影机，属于显影机技术领域，包括显影机本体，其主要特征在于，显影机本体的右侧正对面活动安装有开关控制器，开关控制器的上方开设槽有凹槽一，凹槽一的下表面固定安装有曝光灯，曝光灯的下表面活动安装有盖板，盖板的正对面固定安装有拉手，盖板的下方固定安装有托板，托板的下表面固定安装有真空装置，盖板的内壁嵌入设置有橡胶膜，托板的背面转动连接有合页，通过盖板内壁嵌入设置的橡胶膜，橡胶膜覆盖在半导体晶片的上方，防止粉尘掉落在半导体晶片的上方，导致曝光显影后半导体晶片表面留有杂质。
基本信息
专利标题 ：
一种具有曝光功能的涂胶显影机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022013272.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
CN213210722U
授权日 ：
2021-05-14
发明人 ：
张军区杜国强董金良
申请人 ：
无锡环亚微电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山经济技术开发区云林蓉通路17
代理机构 ：
南京北辰联和知识产权代理有限公司
代理人 ：
王俊
优先权 ：
CN202022013272.9
主分类号 ：
G03G15/08
IPC分类号 ：
G03G15/08 G03G15/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G15/00
应用电荷图形的电记录工艺的设备
G03G15/06
显影用的
G03G15/08
应用固体显影剂，例如，粉末显影剂
法律状态
2021-05-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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