一种真空等离子清洗机
授权
摘要
本实用新型提供一种真空等离子清洗机，涉及等离子领域。该真空等离子清洗机，包括底架，所述底架的上表面固定安装有机体，所述机体的内壁固定安装有第一搁板，所述第一搁板的上表面固定安装有射频电源，所述射频电源的一侧固定安装有软管，所述机体的一侧固定安装有第二搁板，所述第二搁板的上表面固定安装有伸缩电机。该真空等离子清洗机，通过设置有第一搁板，可为射频电源提供安装位置，方便了射频电源的安装，通过设置有射频电源，射频电源可对气体施加足够的能量使之离化成为等离子状态，通过软管注入到等离子发射器内，通过设置有等离子发射器，可对被清洗物的表面进行冲刷，被清洗表面的污染物可被彻底清洗掉。
基本信息
专利标题 ：
一种真空等离子清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921975022.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-15
授权号 ：
CN211134844U
授权日 ：
2020-07-31
发明人 ：
何国栋
申请人 ：
深圳中舜伟迅科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观澜街道黎光社区黎光新工业区150号351
代理机构 ：
荆门市森皓专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王青松
优先权 ：
CN201921975022.4
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2020-07-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
