溅射靶材、银反射膜
授权
摘要
本实用新型涉及一种溅射靶材、银反射膜，所述溅射靶材包括纯银中间段，所述纯银中间段的首端设置有预设长度的第一银合金段，所述纯银中间段的尾端设置有预设长度的第二银合金段。所述溅射靶材在靶材靠近两端位置使用预设长度的银合金来代替原有的纯银材质，使得在使用该溅射靶材进行磁控溅射镀银反射膜时，能保证银反射膜的边缘位置恰好为银合金材质，所以，不仅能够解决银反射膜的黄边老化问题，还能节约银反射膜的制作成本。
基本信息
专利标题 ：
溅射靶材、银反射膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922115469.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN211689223U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
翟怀伦尹铮杰赵锦玲颜毓雷王明辉其他发明人请求不公开姓名
申请人 ：
宁波瑞凌新能源科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市奉化市东峰路88号
代理机构 ：
杭州华进联浙知识产权代理有限公司
代理人 ：
储照良
优先权 ：
CN201922115469.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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