涂胶设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种涂胶设备，涂胶设备包括：可转动的真空吸盘，所述真空吸盘用于放置所述晶圆。喷淋头，位于所述真空吸盘的上方，所述喷淋头上设置有多个喷洒孔，所述多个喷洒孔用于向真空吸盘的方向喷洒光刻胶。本实用新型的技术方案，可以使光刻胶可以更加均匀的喷洒在晶圆上，由于光刻胶在喷涂时就喷涂的比较均匀，在悬涂时还可以相对降低悬涂时的转速，可以减少光刻胶在悬涂时的浪费，解决了悬涂时光刻胶用量大易浪费的问题，达到了节约光刻胶的目的。

基本信息

专利标题：

涂胶设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922144099.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-03

授权号：

CN211086916U

授权日：

2020-07-24

发明人：

刘召军林大野于海娇莫炜静

申请人：

深圳市思坦科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区工业园路1号1栋凯豪达大厦十三层1309

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

孟金喆

优先权：

CN201922144099.3

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16