涂胶显影设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种涂胶显影设备，包括载体块；接口块；第一工艺模块包括液体处理模块以及设置于所述液体处理模块相对两侧的第一热处理模块和第二热处理模块；其中，所述第一热处理模块包括两层层叠设置的第一热处理单元，所述液体处理模块包括四层层叠设置的液体处理单元，所述第二热处理模块包括两层层叠设置的第二热处理单元，且每一层所述第一热处理单元和每一层所述第二热处理单元均具有两个相适配的机械手；第二工艺模块与所述第一工艺模块的结构相同，且与所述第一工艺模块对称设置，大幅度减少了单个机械手的搬运行程，增加了相同时间内搬运晶圆的数量，提高了效率。
基本信息
专利标题 ：
涂胶显影设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021581169.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-03
授权号 ：
CN212460312U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
洪旭东陈兴隆张建
申请人 ：
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号
代理机构 ：
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄海霞
优先权 ：
CN202021581169.8
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 G03F7/38 G03F7/40
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212460312U.PDF
PDF下载
