涂胶显影设备的工艺墙框架
专利权的终止
摘要

一种涂胶显影设备的工艺墙框架,属于半导体晶片涂胶显影技术领域。它是由多个型材构成的立体框架结构,顶架上置有顶板,底架两长边中间安装有底板,顶板和底板之间固定有中间立柱,在中间立柱两侧为对称结构的工艺单元框架模块,所述工艺单元框架模块的结构:是在工艺墙框架顶架和底架的两长边间分别安装有侧柱,两边框立柱及两侧柱上分别安装有侧板,两侧柱上并列安装有多个弧型板,相邻弧型板形成的空间构成晶片进出口,对应每个弧型板在两边框立柱及两侧柱上安装有滑道,该滑道延伸至弧型板的直线段,整个框架形成多个相同空间。本实用新型各工艺单元的活动模块式结构,可以整体拆装。底部的滑轮以减小框架之间的摩擦所带来的灰尘颗粒和划伤。

基本信息
专利标题 :
涂胶显影设备的工艺墙框架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820013644.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-06-25
授权号 :
CN201226079Y
授权日 :
2009-04-22
发明人 :
魏猛
申请人 :
沈阳芯源微电子设备有限公司
申请人地址 :
110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号
代理机构 :
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 :
许宗富
优先权 :
CN200820013644.4
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  G03F7/26  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2018-07-13 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20080625
授权公告日 : 20090422
终止日期 : 20170625
2009-04-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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