涂胶单元以及涂胶显影系统
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摘要
本实用新型提供了一种涂胶单元以及涂胶显影系统，所述涂胶单元包括工艺箱体、载片台、压力监测装置和通风系统，所述通风系统包括供风系统和排风系统，所述工艺箱体包括开口和排风口，所述工艺箱体内部设有所述压力监测装置。光阻在旋涂的过程中，所述压力监测装置对所述工艺箱体内部的压力进行实时监测，可以及时发现所述工艺箱体内部的压力异常，有助于提高光阻厚度的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
涂胶单元以及涂胶显影系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920651509.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-08
授权号 ：
CN209946631U
授权日 ：
2020-01-14
发明人 ：
李明欣朱成云古哲安黄志凯叶日铨
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201920651509.0
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-01-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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