涂胶、显影单元的方便维修结构
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及涂胶、显影单元的改进技术,具体为一种用以在半导体晶片上进行涂胶、显影的涂胶单元及显影单元的方便维修结构,解决涂胶、显影单元维修或更换时存在的笨重又不方便,容易造成部件的局部划伤,从而产生机械尘粒,不利于涂胶、显影工艺过程等问题。涂胶或显影单元的基座置于安装板上,基座底部安装凸轮随动器,安装板上开有与凸轮随动器配合的凹槽。当单元发生故障需要进行维修或更换时,便可以拆除单元与机架的固定螺栓,借助凸轮随动器的滚动作用将单元整体沿直线凹槽向外拉出,可以实现对涂胶(显影)单元的方便、快捷的维修与及时更换,即插即用。

基本信息
专利标题 :
涂胶、显影单元的方便维修结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820015387.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-09-03
授权号 :
CN201262684Y
授权日 :
2009-06-24
发明人 :
魏猛
申请人 :
沈阳芯源微电子设备有限公司
申请人地址 :
110168辽宁省沈阳市浑南新区飞云路16号
代理机构 :
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 :
张志伟
优先权 :
CN200820015387.8
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  G03F7/26  H01L21/00  H01L21/027  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2018-08-21 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20080903
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20170903
2009-06-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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