一种涂胶显影设备的喷嘴结构

授权

摘要

本实用新型公开了一种涂胶显影设备的喷嘴结构，包括连接管、密封片、喷头和连接装置，连接管右侧设置有密封片，并且密封片右侧与喷头相连接，连接管左侧设置有连接装置，该涂胶显影设备的喷嘴结构通过设置了连接装置，连接时只需将连接环与外部设备进行连接，并由限位块进行限位增加固定性即可，解决了现有喷嘴结构连接时稳定性较差的问题，通过设置了流量调节机构，使用转动环带动推动环转动，使推块推动转动片转动进行流量调节，解决了对于不同加工件需要的原料较少，流量过大容易出现浪费以及溢出的情况的问题。

基本信息

专利标题：

一种涂胶显影设备的喷嘴结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021573192.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-31

授权号：

CN212596492U

授权日：

2021-02-26

发明人：

吴永利

申请人：

芯米（厦门）半导体设备有限公司

申请人地址：

福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区春风路6号第三层301

代理机构：

厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

吴圳添

优先权：

CN202021573192.2

主分类号：

B05B1/30

IPC分类号：

B05B1/30 B05B15/65 G03F7/16 G03F7/30