涂胶显影设备的稳压装置以及涂胶显影设备

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摘要

本发明提供了一种涂胶显影设备的稳压装置以及涂胶显影设备，所述涂胶显影设备的稳压装置包括风洞，具有一轴向贯穿所述风洞两端的进风端和出风端的通孔，通孔的侧壁上设置有限位口；轴承，轴向设置于所述通孔中；活塞，与所述限位口配合打开或关闭所述通孔；弹簧，所述弹簧的靠近所述限位口的一端通过所述轴承上的一弹簧限位杆固定于所述轴承上；曲柄和曲柄连杆，设置于所述弹簧的远离所述进风端的一侧，所述曲柄与所述弹簧的远离所述限位口的一端连接；螺旋桨，设置于所述轴承的靠近所述出风端的一端。本发明提供的技术方案能够稳定涂胶显影腔室与外界大气之间的压差，进而使得晶圆表面的膜厚的均匀性能够控制在规格内，降低晶圆的返工率。

基本信息

专利标题：

涂胶显影设备的稳压装置以及涂胶显影设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112558431A

申请号：

CN202011486095.4

公开（公告）日：

2021-03-26

申请日：

2020-12-16

授权号：

CN112558431B

授权日：

2022-06-03

发明人：

陈力钧吴国光莫少文

申请人：

上海华力微电子有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区良腾路6号

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

曹廷廷

优先权：

CN202011486095.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20