一种用于晶片抛光机的废料收集机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于晶片抛光机的废料收集机构，属于晶片加工设备技术领域，旨在提供一种清理残屑方便、彻底的用于晶片抛光机的废料收集机构，包括机体，机体包括工作箱，工作箱内设有工装夹具，工作箱内的底部上开有导料槽，导料槽环绕工装夹具，导料槽呈倾斜状，导料槽的最底端开有排料孔，机体上设有与排料孔连通并与机体连接的排料管、与排料管连接的吸风机及与吸风机连接的收料箱，工作箱上设有用于工作箱密封的密封盖。
基本信息
专利标题 ：
一种用于晶片抛光机的废料收集机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922161847.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-06
授权号 ：
CN211465922U
授权日 ：
2020-09-11
发明人 ：
潘芳琳
申请人 ：
浙江罗克光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市秀洲区油车港镇茶园北路257号
代理机构 ：
嘉兴嘉科嘉创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
路忠琴
优先权 ：
CN201922161847.9
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B41/06 B24B55/06 B07B1/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2020-09-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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