一种化学铜槽液处理系统
授权
摘要
本实用新型一种化学铜槽液处理系统，包括一级氧化池、一级pH调节池、一级沉淀池、二级pH调节池、二级沉淀池、三级pH调节池、二级氧化池、四级pH调节池、三级沉淀池、一级板框过滤机、二级板框过滤机、三级板框过滤机。本实用新型采用“芬顿氧化+两级沉淀+次氯酸钙氧化+三级沉淀”的化学铜槽液处理系统，采用芬顿、次氯酸钙两级氧化，提高化学铜，化学镍的破络效果；芬顿氧化过后采用两级沉淀，确保沉淀效率，防止金属铜、镍沉淀发生反溶及铁离子沉淀不完全的现象；次氯酸钙氧化过后利用钙离子的共沉淀效应，有效去除化学铜槽液中剩余的重金属离子，达到金属离子的国家排放标准。
基本信息
专利标题 ：
一种化学铜槽液处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922199982.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-10
授权号 ：
CN212151846U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
陈永乐沈德华骆劲松范正芳陈尧李瑞鹏吴冬飞
申请人 ：
南京源泉环保科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市中央北路73号
代理机构 ：
南京天华专利代理有限责任公司
代理人 ：
徐冬涛
优先权 ：
CN201922199982.2
主分类号 ：
C02F9/04
IPC分类号 ：
C02F9/04 C02F101/20 C02F103/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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