本实用新型公开了臭氧发生器技术领域的一种半导体臭氧发生器，包括外壳、半导体制冷座和臭氧发生器，所述半导体制冷座位于外壳右侧，在使用时，水槽内腔的水经过半导体制冷座进行降温冷却，再由顶部水泵通过抽水管抽出，经连接管和进水接头送入外壳与臭氧发生器形成的空腔内，冷却后的水直接与臭氧发生器的外壁接触，达到冷却目的，而空腔中的水通过排水管入水槽内进行再次冷却，可提高水资源的利用率，且顶部水泵右端的连接管穿过半导体制冷座与水槽的连接处，连接管位于半导体制冷座与水槽内侧的部分为蛇形管，蛇形管可延长水流过两者之间的速度，使的半导体制冷座对连接管内腔的水进行充分的冷却，来提高对臭氧发生器的冷却效率。