一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备
授权
摘要
本申请公开了一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备，所述设备包括光线产生单元，分束单元，第一光路改变单元，第二光路改变单元，记录材料以及位置移动单元，通过上述设备能够实现全息干涉记录手段制备小占宽比的全息光栅，不仅对制备材料没有特殊要求，而且不需要额外的设备和特殊元件，利用该中设备制备小占宽比全息光栅过程简单，制备速度快，且制备成本低。
基本信息
专利标题 ：
一种利用全息干涉记录手段制备小占宽比全息光栅的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922242104.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-13
授权号 ：
CN212846007U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
刘凯航王婉秋任雪畅炉庆洪
申请人 ：
厦门大学
申请人地址 ：
福建省厦门市思明南路422号
代理机构 ：
厦门市首创君合专利事务所有限公司
代理人 ：
张松亭
优先权 ：
CN201922242104.4
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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