用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统,包括:底板,其上通过支撑柱放置有光学元件;风刀及离子棒单元,其通过支撑单元连接在底板上,且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端,并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面;静电吸附电极,其包括平行设置的正电极棒和负电极棒,正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上,且正电极棒位于光学元件的上方,负电极棒位于光学元件的的下方。通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电,采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动,对污染物进行收集,从而达到污染物去除的目的。
基本信息
专利标题 :
用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922250112.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-16
授权号 :
CN211134839U
授权日 :
2020-07-31
发明人 :
牛龙飞苗心向邹睿周国瑞刘昊蒋一岚蒋晓东周海倪卫
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省绵阳市科学城绵山路64号
代理机构 :
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
贾晓燕
优先权 :
CN201922250112.3
主分类号 :
B08B6/00
IPC分类号 :
B08B6/00 B08B5/02 B08B15/04
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B6/00
用静电法清洁
法律状态
2020-07-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211134839U.PDF
PDF下载