本发明涉及一种提供表征光学元件的表面形状的方法和装置，该光学元件特别是微光刻投射曝光系统的反射镜或透镜。根据本发明的方法包括以下步骤：实行多个干涉式测量，其中记录在来自光学元件的相应部分的测试波与参考波之间的相应的干涉图，其中在这些测量之间，光学元件的位置相对于测试波更改；以及基于这些测量计算与光学元件的目标形状的偏差，其中该计算迭代地发生为使得在多个迭代步骤中，与光学元件的目标形状的偏差通过实行正演计算来确定，其中这些迭代步骤中的每一个迭代步骤基于以前次迭代步骤为基础来调整的相应的参考波。