用于表征光学元件表面形状的方法和装置
公开
摘要
本发明涉及一种用于表征光学元件的表面形状的方法和装置。根据本发明的方法包括以下步骤：在干涉测量测试装置中，通过将由电磁辐射在衍射元件上的衍射生成的并且在光学元件处反射的测试波与未在光学元件处反射的参考波叠加，在光学元件上执行至少第一干涉图测量；在每种情况下，在一个校准反射镜上执行至少一个另外的干涉图测量以确定校准校正；并且基于在光学元件上执行的第一干涉图测量和所确定的校准校正来确定光学元件与目标形状的偏差。对至少一个校准反射镜执行至少两个干涉图测量，该至少两个干涉图测量在电磁辐射的偏振状态方面彼此不同。
基本信息
专利标题 ：
用于表征光学元件表面形状的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556046A
申请号 ：
CN202080072360.6
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S.西格勒J.劳夫A.沃尔夫M.卡尔T.格鲁纳T.席克坦茨
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN202080072360.6
主分类号 ：
G01B11/24
IPC分类号 ：
G01B11/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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