一种用于太赫兹探测的光学耦合结构
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摘要

本实用新型涉及一种用于太赫兹探测的光学耦合结构,属于太赫兹探测技术领域。主要包括透镜,所述透镜具有一平面和一球面,所述透镜的平面上设有衬底,所述衬底上设有太赫兹探测器件上,且所述太赫兹探测器件设于透镜的平面的中心;太赫兹波经所述透镜额球面、衬底后聚焦入射于太赫兹探测器件上。所述透镜的球面的半径R大于10倍的太赫兹波波长,且所述透镜的横截面大于太赫兹探测器件。所述透镜为高阻本征硅材质件的超半球硅透镜,所述衬底为高阻本征硅衬底。本申请减小太赫兹源的光斑大小,使其与太赫兹探测器件的有效接收面积大小一致,提高了太赫兹探测器件对入射太赫兹波的有效利用,从而提高太赫兹探测器的灵敏度。

基本信息
专利标题 :
一种用于太赫兹探测的光学耦合结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922294454.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-19
授权号 :
CN210981521U
授权日 :
2020-07-10
发明人 :
张凯沈文董卓孟祥
申请人 :
江苏盖姆纳米材料科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市临港新城区镇澄路3433号
代理机构 :
江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙燕波
优先权 :
CN201922294454.5
主分类号 :
G01J1/04
IPC分类号 :
G01J1/04  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法,例如照相的曝光表
G01J1/02
零部件
G01J1/04
光学或机械部件
法律状态
2020-07-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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