一种太赫兹波探测光路以及成像测试光路
授权
摘要
本实用新型涉及一种太赫兹波探测光路以及成像测试光路，属于太赫兹探测领域。包括太赫兹光源和离轴抛物镜单元，所述离轴抛物镜单元设置在太赫兹光源与太赫兹探测器之间；所述离轴抛物镜单元包括2个以上依次设置的离轴抛物镜，相邻两所述离轴抛物镜的反射面平行相对设置，所述太赫兹光源发射的太赫兹波经2个以上的离轴抛物镜的反射面反射后汇聚至太赫兹探测器上。本申请通过离轴抛物镜单元将发散的太赫兹光源进行汇聚，并将汇聚的太赫兹波照射到太赫兹探测器上，实现对太赫兹的有效探测。在太赫兹成像测试时，通过移动成像物品的位置，保证了太赫兹探测器一直处在接收太赫兹波的最优位置(最小光斑的中心)。
基本信息
专利标题 ：
一种太赫兹波探测光路以及成像测试光路
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922330269.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-23
授权号 ：
CN210981523U
授权日 ：
2020-07-10
发明人 ：
张凯沈文董卓江可佳
申请人 ：
江苏盖姆纳米材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市临港新城区镇澄路3433号
代理机构 ：
江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙燕波
优先权 ：
CN201922330269.7
主分类号 ：
G01J1/04
IPC分类号 ：
G01J1/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法，例如照相的曝光表
G01J1/02
零部件
G01J1/04
光学或机械部件
法律状态
2020-07-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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