一种偏光片模切用制程保护膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种偏光片模切用制程保护膜，涉及保护膜技术领域，该保护膜包括基材层、胶黏层和离型层，所述基材层包括第一基材层、第二基材层和第三基材层，所述胶黏层包括第一胶黏层、第二胶黏层和第三胶黏层，所述第一基材层、第二基材层和第三基材层与第一胶黏层、第二胶黏层和第三胶黏层依次间隔设置，所述离型层贴合在第三胶黏层底面。本申请所公开的保护膜为基材多层复合及有色设计，不仅排气性高，粘性稳定(低爬升)，而且低污染、抗静电，可多少重复使用。
基本信息
专利标题 ：
一种偏光片模切用制程保护膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922336064.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-23
授权号 ：
CN211570530U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
徐凌华小龙郑子能
申请人 ：
崴思新材料泰州有限公司
申请人地址 ：
江苏省泰州市兴化市周庄镇美联大道
代理机构 ：
北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤海锋
优先权 ：
CN201922336064.X
主分类号 ：
C09J7/29
IPC分类号 ：
C09J7/29 C09J7/38
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J7/00
薄膜或薄片状的粘合剂
C09J7/20
以它们的载体为特征
C09J7/29
层状材料
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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