一种近红外滤光片

授权

摘要

本实用新型涉及光学薄膜制备技术领域，尤其涉及一种近红外滤光片，其特征在于：包括交替堆叠的高折射率层和低折射率层，其中所述高折射率层为掺碳氢化硅层或掺碳氢化锗层。本实用新型的优点是：达到高截止深度、低角度效应、高透过率的目的；晶格结构规则、缺陷少，硬度更高、环境耐久性强、膜层应力小；具有在人脸识别特定波段低吸收的特点；膜系设计的总物理膜厚大大降低，同时生产周期缩短，提高生产效率；物理膜层减少后，膜层的热应力相应减小。

基本信息

专利标题：

一种近红外滤光片

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922392131.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-27

授权号：

CN211718557U

授权日：

2020-10-20

发明人：

李爽

申请人：

光驰科技（上海）有限公司

申请人地址：

上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号

代理机构：

上海申蒙商标专利代理有限公司

代理人：

周宇凡

优先权：

CN201922392131.X

主分类号：

G02B5/20

IPC分类号：

G02B5/20 G02B5/28