本实用新型公开了一种金属硅清洗装置，涉及硅材料加工技术领域。包括预清洗装置和清洗装置，所述预清洗装置包括预清洗腔，进料口，出料口，所述清洗装置包括清洗腔，在预清洗腔内部两侧间隔均匀相互交错设置有多个向下倾斜设置的下料板，预清洗腔的顶部固定安装有布水板，布水板内部中空设置，布水板底部间隔均匀连通有多个喷头；所述清洗腔内部间隔均匀设置有隔板，隔板将清洗腔分隔成多个清洗域，清洗域内设置有搅拌装置，清洗域内部转动安装有至少两根水平放置的喷水管，喷水管与水箱连通，喷水管上设置有多个喷水口。本实用新型通过两级清洗结构，使得硅矿石表面的杂质能被完全清除，清洗效果较好，有利于后续的冶炼或加工。