一种检漏仪真空计的安装结构
授权
摘要

本实用新型技术方案一种检漏仪真空计的安装结构,包括压脚,所述压脚固定在阀座上,所述压脚包括一组呈上下设置的上压脚和下压脚,所述上压脚和下压脚均包括顶部设有卡槽的底座和与设置在卡槽内的压板,所述底座和压板上均设置有通孔,所述压板和底座通过固定件呈上下固定,所述压板通过固定件的调节沿远离或者靠近卡槽方向运动,所述上下两个底座之间通过弹性件连接;上下两个底座之间通过弹性件连接,避免了单个安装压脚时压脚下垂需要手扶而带来的安装难度,且通过弹性件连接可通过弹性件的形变来调整底座的角度,使固定更加牢固。

基本信息
专利标题 :
一种检漏仪真空计的安装结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922476245.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-31
授权号 :
CN211877317U
授权日 :
2020-11-06
发明人 :
左泽凡
申请人 :
安徽歌博科技有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市蜀山区环湖东路118号蓝山名邸13幢101室
代理机构 :
合肥律众知识产权代理有限公司
代理人 :
冯慧云
优先权 :
CN201922476245.2
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2020-11-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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