用于形成三维光场分布的光学器件、系统和方法
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摘要
一种用于形成三维光场分布的光学器件(100)，包括：单位晶格(104)的阵列(102)，单位晶格(104)可单独寻址以用于在第一状况和第二状况之间切换单位晶格(104)的光学特性；其中单位晶格(104)被配置为选择性地活跃或不活跃，并且其中，阵列(102)至少包括第一和第二不相交子集(110；112；114；116)，并且其中，子集(110；112；114；116)中的单位晶格(104)被配置成从不活跃联合切换到活跃，其中活跃单位晶格(104)被配置成与入射光束(106)相互作用以形成三维光场分布；并且其中，该光学器件(100)被配置成寻址不活跃单位晶格(104)以用于切换单位晶格(104)的光学特性。
基本信息
专利标题 ：
用于形成三维光场分布的光学器件、系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111771168A
申请号 ：
CN201980015133.7
公开（公告）日 ：
2020-10-13
申请日 ：
2019-02-19
授权号 ：
CN111771168B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
X·罗滕伯格K·洛德威克斯
申请人 ：
IMEC非营利协会
申请人地址 ：
比利时勒芬
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
杨洁
优先权 ：
CN201980015133.7
主分类号 ：
G03H1/02
IPC分类号 ：
G03H1/02 G02F1/135 G03H1/22
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03H
全息摄影的工艺过程或设备
G03H1/00
应用光波、红外波或紫外波取得全息图或由此获得图像的全息摄影工艺过程或设备；及其特殊的零部件
G03H1/02
零部件
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-03-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03H 1/02
申请日 : 20190219
申请日 : 20190219
2020-10-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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