存储器组件中的矢量化处理电平校准
授权
摘要
通过处理装置基于一组错误值来确定第一矢量及第二矢量，所述第一矢量及所述第二矢量分别相对于参考轴线具有第一量级及第二量级以及第一相角及第二相角，所述组错误值对应于用于在对存储器组件的存储器单元的存储器操作中处理数据的当前处理电平。基于所述第一量级与所述第二量级之间的差或所述第一相角与所述第二相角之间的差中的至少一个之间的比较来生成所估计处理电平偏移量。基于所述所估计处理电平偏移量来生成更新处理电平，且所述更新处理电平替换所述当前的处理电平。
基本信息
专利标题 ：
存储器组件中的矢量化处理电平校准
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112889112A
申请号 ：
CN201980069420.6
公开（公告）日 ：
2021-06-01
申请日 ：
2019-10-24
授权号 ：
CN112889112B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
M·舍佩雷克L·J·考德莱
申请人 ：
美光科技公司
申请人地址 ：
美国爱达荷州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王艳娇
优先权 ：
CN201980069420.6
主分类号 ：
G11C5/14
IPC分类号 ：
G11C5/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11C
静态存储器
G11C5/14
电源装置
法律状态
2022-05-13 ：
授权
2021-06-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G11C 5/14
申请日 : 20191024
申请日 : 20191024
2021-06-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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