一种双模态显微成像系统和方法
授权
摘要
本申请实施例公开了一种双模态显微成像系统和方法。所述双模态显微成像系统包括光学衍射层析成像子系统和结构光照明荧光成像子系统；所述光学衍射层析成像子系统用于基于第一激光进行无标记光学衍射层析成像，以获取样本的光学衍射层析图像；所述结构光照明荧光成像子系统用于基于第二激光进行荧光成像，以获取所述样本的结构光照明荧光图像；其中，所述双模态显微成像系统包括相互独立的第一光源和第二光源，所述第一光源用于发射所述第一激光，所述第二光源用于发射所述第二激光。
基本信息
专利标题 ：
一种双模态显微成像系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111610621A
申请号 ：
CN202010059510.1
公开（公告）日 ：
2020-09-01
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN111610621B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
施可彬陈良怡董大山黄小帅李柳菊毛珩王爱民
申请人 ：
北京大学
申请人地址 ：
北京市海淀区颐和园路5号
代理机构 ：
成都七星天知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱璟
优先权 ：
CN202010059510.1
主分类号 ：
G02B21/00
IPC分类号 ：
G02B21/00 G02B21/06 G02B21/36 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-09-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 21/00
申请日 : 20200119
申请日 : 20200119
2020-09-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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