单点探测成像系统
授权
摘要

本发明涉及成像技术领域,提供一种单点探测成像系统,该成像系统包括光源、第一聚光模块、光调制模块、第二聚光模块、光处理模块和计算机;光源照射至外部的目标物体表面,第一聚光模块用于对经过目标物体表面反射的反射光进行聚焦处理以形成投影于光调制模块的第一聚焦光,光调制模块用于对第一聚焦光进行稀疏变换并对第一聚焦光进行编码调制以形成调制光,第二聚光模块用于对调制光进行聚焦处理以形成投影于光处理模块表面的第二聚焦光,光处理模块用于根据第二聚焦光形成数字信号并将数字信号发送至计算机,计算机用于对数字信号进行处理以获得目标物体的复原图像。通过本发明的实施,能够解决现有技术中的成像技术存在成本高且复杂的问题。

基本信息
专利标题 :
单点探测成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111443358A
申请号 :
CN202010172085.7
公开(公告)日 :
2020-07-24
申请日 :
2020-03-12
授权号 :
CN111443358B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
肖君军周武超马昱刘强刘彧尘
申请人 :
哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)
申请人地址 :
广东省深圳市南山区桃源街道深圳大学城哈尔滨工业大学校区
代理机构 :
深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张宏杰
优先权 :
CN202010172085.7
主分类号 :
G01S17/89
IPC分类号 :
G01S17/89  G01S7/481  H04N5/232  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01S
无线电定向;无线电导航;采用无线电波测距或测速;采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测;采用其他波的类似装置
G01S17/875
用来决定高度
G01S17/88
专门适用于特定应用的激光雷达系统
G01S17/89
用于绘地图或成像
法律状态
2022-06-03 :
授权
2020-08-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01S 17/89
申请日 : 20200312
2020-07-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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